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　　4月10日，浙江大学极端光学技术与仪器全国重点实验室在杭州举办成果发布会，宣布成功研发万通道3D纳米激光直写光刻机，为超分辨光刻、光子芯片制造、高端掩模版加工等领域提供关键技术支撑。

　　据悉，该激光直写光刻机的加工精度可达亚30纳米，加工速率可达42.7平方毫米/分钟，最大刻写尺寸覆盖12 英寸硅片，为大面积微纳结构的高通量、高精度制造提供了新途径。(吴君毅 庄蕙语)

责任编辑：【罗攀】